FR-Scanner-AIO-Mic-XY200 膜厚儀

1、FR-Scanner-AIO-Mic-XY200介紹

模塊化厚度測繪系統平臺，集成了光學、電子和機械模塊，用于表征圖案化薄膜光學參數。典型案例包括（但不限于）微圖案表面、粗糙表面等。晶圓放置在真空吸盤上，該真空吸盤支持尺寸/直徑達 200 毫米的各種晶圓，執行測量光斑尺寸小至幾微米的強大光學模塊。電動平臺提供XY方向200毫米的行程，在速度、精度和可重復性方面具有前所未有的性能。

FR-Scanner-AIO-Mic-XY200提供：o 實時光譜反射率測量 o 薄膜厚度、光學特性、不均勻性測量、厚度測繪o 使用集成的、USB 連接的高質量彩色相機進行成像o 測量參數的統計數據

2、特征

圖片2.png

o 單擊分析（無需初始猜測）

o 動態測量

o 光學參數（n & k、色座標）

o Click2Move 和圖案測量位置對齊功能

o 多個離線分析安裝

o 軟件更新

3、規格

Model		UV/VIS	UV/NIR -EX	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D VIS/NIR	NIR	NIR-N2
Spectral Range (nm)		200 – 850	200 –1020	200-1100	200 – 1700	370 –1020	370 – 1700	900 – 1700	900 - 1050
Spectrometer Pixels		3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512	3648
Thickness range (SiO2) *1	5X- VIS/NIR	4nm – 60μm	4nm – 70μm	4nm – 100μm	4nm – 150μm	15nm – 90μm	15nm–150μm	100nm-150μm	4um – 1mm
	10X-VIS/NIR 10X-UV/NIR*	4nm – 50μm	4nm – 60μm	4nm – 80μm	4nm – 130μm	15nm – 80μm	15nm–130μm	100nm–130μm	–
	15X- UV/NIR *	4nm – 40μm	4nm – 50μm	4nm – 50μm	4nm – 120μm	–	–	100nm-100μm	–
	20X- VIS/NIR 20X- UV/NIR *	4nm – 25μm	4nm – 30μm	4nm – 30μm	4nm – 50μm	15nm – 30μm	15nm – 50μm	100nm – 50μm	–
	40X- UV/NIR *	4nm – 4μm	4nm – 4μm	4nm – 5μm	4nm – 6μm	–	–	–	–
	50X- VIS/NIR	–	–	–	–	15nm – 5μm	15nm – 5μm	100nm – 5μm	–
Min. Thickness for n & k		50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm	–
Thickness Accuracy **2		0.1% or 1nm				0.2% or 2nm		3nm or 0.3%
Thickness Precision **3/4		0.02nm				0.02nm		<1nm	5nm
Thickness stability **5		0.05nm				0.05nm		<1nm	5nm
Light Source		Deuterium & Halogen				Halogen (internal), 3000h (MTBF)
Min. incremental motion		0.6μm
Stage repeatability		±2μm
Absolute accuracy		±3μm
Material Database		> 700 different materials
Wafer size		2in-3in-4in-6in-8in
Scanning Speed		100meas/min (8’’ wafer size)
Tool dimensions / Weight		700x700x200mm / 45Kg

測量區域光斑（收集反射信號的區域）與物鏡和孔徑大小有關	物鏡	Spot Size (光斑)
	放大倍率	500微米孔徑	250微米孔徑	100微米孔徑
	5x	100 μm	50 μm	20 μm
	10x	50 μm	25 μm	10 μm
	20x	25 μm	15 μm	5 μm
	50x	10 μm	5 μm	2 μm

4、工作原理

Principle of Operation 測量原理White Light Reflectance Spectroscopy (WLRS) 白光反射光譜是測量從單層薄膜或多層薄膜堆疊結構的一個波長范圍內的反射量，入射光垂直于樣品表面，由于界面干涉產生的反射光譜被用來計算確定（透明或部分透明或完全反射基板上）薄膜的厚度、光學常數（N&K）等。

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