1. 主要應用

具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。

2. 簡介

該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。

3. 特征

1) 頂部和底部對準能力

2) 高精度對準臺

3) 自動楔形誤差補償機制

4) 電動和配方控制的曝光間隙

5) 支持蕞新的UV-LED技術

6) 蕞小化系統占地面積和設施要求

7) 分步流程指導

8) 遠程技術支持

9) 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

4. 附加功能

1) 鍵對準

2) 紅外對中

3) 納米壓印光刻

4) 微接觸印刷

5. 技術數據

1) 晶圓直徑（基板尺寸）

2) 標準光刻：碎片蕞大150毫米

3) 柔軟的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片

4) 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

5) 支持流程：柔軟的UV-NIL

6) 曝光源：汞光源或紫外線LED光源

7) 自動分離功能：不支持

8) 工作印章制作：外部