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白光反射光譜原理(膜厚儀工作原理)

發布時間:2021-11-13

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       白光反射光譜 (WLRS : White Light Reflectance Spectroscopy ) 使用包含寬帶(UV、VIS 或 NIR)光源和 PC 驅動的小型化光譜儀,在對應不同厚度范圍的光譜中操作。從光源發出的白光(或寬帶光) 通過光纖 a1-a6(圖 1a)被傳輸到反射探頭,該光纖垂直入射到所測量的樣品上。典型的測量樣品包括在適當的反射或透射基底(例如硅片、載玻片)上的透明和半透明薄膜堆疊結構。同時,反射探頭收集反射光(通過光纖 b,圖 1a),將其傳輸至光譜儀。來自光源與樣品的光束相互作用(圖 1b)并產生反射信號,信號由光譜儀連續記錄該信號。.
白光反射光譜原理圖片.jpg
 Figure 1: 典型的 WLRS 設置。 (a) 反射探頭的配置細節,(b) 通過反射基板上的兩層樣品的光徑細節
       由 k 層組成的樣品的全反射系數可以通過各種模型計算。我們遵循了 Abeles 方法計算,其中 k-1 層的有效菲涅耳系數為:
公式1.png
       其中 ρ 是振幅,Δ 是相位。從這組方程可以計算任何第 k 層的反射率。在本研究的特殊情況下,即基板和環境之間的兩個透明層,總能量可以寫為:
公式2.png
       其中 ni 是第 i 層的折射率(空氣,i=0,弟一層薄膜i=1,第二層薄膜i=2,基板為3,在懸浮薄膜堆疊的情況下,n3 對應為空氣),di為第 i 層膜厚而 λ 為對應的波長。光在各個界面的傳播如圖 2 所示。 Si 襯底上的兩個透明層堆疊的典型反射光譜如圖 3 所示.  在同一圖中,還顯示了 (基準參考片)在VIS-NIR 范圍內的入射光譜。干涉條紋的數量和形狀取決于薄膜的厚度和折射率。通過使用Levenberg-Marquardt算法進行實驗光譜與上述方程的擬合。所有層的折射率 ni 與波長的關系已經用光譜橢偏儀計算并擬合到柯西模型三參數 (A, B, C) 并存儲在數據庫中。通過應用等式2.2 對于適用光譜范圍內的所有波長以計算薄膜厚度。計算可以應用于不止一種膜厚擬合,或者反向地應用已知厚度來計算折射率,更或者薄膜厚度和折射率的組合計算。需注意計算參數的增加也可能同時增加結果的不確定性。
白光干涉原理.jpg
Figure 2: 由基底 (3) 上的兩層 (1, 2) 和薄膜堆疊上方的介質 (0)(例如空氣或水)組成的堆棧中的光傳播示意圖.

白光干涉測試圖.jpg 

Figure 3: 硅上兩層堆疊薄膜的反射(薄膜干涉現象)光譜和參考基準白光光譜

       圖 2 顯示了 FR-Monitor 軟件界面,其中包含從 Si 基底上的 Si3N4/SiO2 堆疊獲取的參考和反射光譜。在圖 3 中,同時顯示圖 4 堆疊的校正的反射光譜(黑線)與擬合光譜(紅線)。擬合計算得到的 Si3N4 和 SiO2 厚度分別為 138.4nm 和 577.3nm。
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