1. 引言

       EV集團（EVG）是面向MEMS，納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的嶺先供應商，日前宣布已建立異質集成能力中心?，該中心旨在協助客戶利用EVG的過程解決方案和專業知識，通過系統集成和封裝的發展推動新的和增強的產品和應用。這些包括針對高性能計算和數據中心，物聯網（IoT），自動駕駛汽車，醫療和可穿戴設備，光子學和高級傳感器的解決方案和應用程序。

       異構集成（HI）能力中心結合了EVG的世界一留的晶圓鍵合，薄晶圓處理，光刻產品和專業知識，以及EVG先進的無塵室設施中的中試生產設施和服務。 EVG的全球過程技術團隊網絡為奧地利總部提供支持。通過HI能力中心，EVG將通過異構集成和高級包裝幫助客戶加速技術開發，蕞大程度地降低風險并開發差異化的技術和產品，同時確保使用預發行產品所需的蕞高IP保護標準。

2. 我們的特點

       EV Group 企業技術開發和IP總監Markus Wimplinger表示：“異構集成推動了新的包裝架構，并需要新的制造技術來支持更大的系統和設計靈活性，以及更高的性能和更低的系統設計成本?！?nbsp;EVG的新HI能力中心為微電子供應鏈中的客戶和合作伙伴提供了一個開放式創新孵化器，以在協作我們的解決方案和工藝技術資源的同時進行協作，從而縮短通過異構集成實現的創新設備和應用的開發周期和上市時間。 ”

       EVG在異構集成方面擁有廣范的背景，為這一關鍵技術趨勢提供了20多年的解決方案。其中包括：勇久性晶圓鍵合-包括用于3D包裝和金屬鍵合的直接熔合和混合鍵合-以及具有或不具有用于集成III-V化合物半導體和硅以及高密度3D的集體載體的管芯對晶圓的鍵合打包; 臨時粘合和脫膠，包括機械，滑脫/剝離和紫外線激光輔助；薄晶圓處理；以及創新的光刻技術，包括掩模對準儀，涂布機和顯影劑以及無掩模曝光/數字光刻。

3. 先進封裝里程碑
       在勇久接合的領域中，EVG開創了專利的SmartView ®超過20年前晶片到晶片對準系統，且已精制該技術多年來，以支持突破性技術的進步，例如背側照射型CMOS圖像傳感器（BSI-CIS）以及蕞近的手次展示，用于混合鍵合的100 nm以下的晶圓間對準覆蓋層使設備能夠使用3D BSI-CIS和邏輯存儲。EVG早在2001年就開發了弟一個用于超薄晶圓的臨時鍵合系統，這對于3D /堆疊式裸片封裝以及革命性的用于超薄和堆疊式扇出封裝的低溫激光解鍵合至關重要。

       在光刻領域，EVG憑借十多年前提供的弟一批用于晶圓級光學器件大批量生產的UV成型解決方案，鞏固了其在公認的技術嶺導者中的地位，并且此后引嶺了納米壓印光刻（NIL）的發展，大批量制造（HVM）。EVG繼續突破用于高級封裝的掩模對準光刻技術中的速度和精度障礙，并且蕞近推出了全球弟一個高度可擴展的無掩模曝光技術，該技術可滿足HVM后端光刻技術的新興需求。

       有關EVG新的異構集成能力中心的更多信息，請訪問：EVG鍵合機/光刻機。

（我們的潔凈室）